设备名称

Parylene + ALD一体机P1000-X

反应腔体

腔室尺寸：内径400mm, 高度577mm, 标配电控旋转托盘，0~80r/min连续可调

反应腔体温度

恒温26±1℃

Parylene蒸发室

室温~180℃连续可调节；控温精度±1℃；温控灵敏度≤0.5℃；料舱容积＞1kg

Parylene裂解室

650℃~730℃连续可调节；控温精度±2℃；温控灵敏度≤0.5℃

ALD前驱体源

气态、液态、固态以及臭氧源，源瓶为标准50 mL挥发式容器和100 mL载气辅助式容器，其他规格可定制，系统具备前驱体剩余量提示功能。

ALD前驱体输运管路

配备完全独立的前驱体源管路，每路前驱体源都是以独立的入口和独立的流量计进入反应腔。

ALD源瓶及管路加热系统

配备独立可拆卸加热套，RT~200 oC，控制精度±1 oC

ALD阀门

专用ALD阀门（耐热150 oC），源瓶手动阀（耐热200 oC）

真空系统

标准油泵（配有油雾粉尘过滤器）, 真空泵抽气速率：≥18L/s

压力传感器

0.005Torr - 1000Torr

控制系统

触摸屏+微机控制系统，全自动控制软件，控制加热、流量等全部沉积过程，以及温度、脉冲阀门等全过程记录，还支持工艺参数存储和调用功能。

Parylene镀膜均匀性

Parylene镀层均匀性标准偏差≤±10%膜厚。

机柜

可移动铝型材框架，不锈钢面板

尺寸：3000×1800×1970mm（长*宽*高）

选配

臭氧发生器/尾气处理装置