原子层沉积复合涂层

原子层沉积技术(ALD)是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相沉积方法，它可以将物质以单原子膜的形式一层一层地镀在衬底表面上。利用原子层沉积技术在三维衬底上可以生长完美的保形涂层（如氧化铝，氧化钛等），生长的薄膜涂层具有出色的防潮、抗氧化特性，同时厚度可以通过循环数量进行精准控制。

原子层沉积+派拉纶复合涂层
我们通过自研的一体机设备和特殊的沉积方法开发出了ALD无机涂层和parylene有机涂层相结合的增强型复合涂层。新型复合涂层材料具备陶瓷薄膜（如氧化铝、氧化钛等）和派拉纶有机薄膜的防护优点，可以给特殊环境中（如富含水氧的环境）使用的设备提供更长久的保护，从而延长其使用寿命。得益于ALD工艺原子级别的厚度控制和出色的保形性能，新型复合涂层在保证优秀防护性能的同时可以将薄膜厚度控制在几微米左右，另外还能为复杂或者微型的部件提供360°的全方位均匀涂敷，从而保护产品免受侵蚀。

原子层沉积+派拉纶涂层的特性
超强水氧阻隔性能
超薄、均匀的薄膜
卓越的电气绝缘性能
卓越的防护性能
优秀的生物相容性
优秀的三维保形性

PAL的优势
为制造商和供应商提供全球生产的能力
获GB/TI 9100和ISO 9001管理体系认证
获ISO 13485质量管理体系认证
超过20年的敷形涂层经验